Die chinesische Regierung hat in strengster Geheimhaltung einen Prototyp für die Herstellung von Nanochips entwickelt, eine Technologie, die bislang ausschließlich von der niederländischen Firma ASML beherrscht wurde. Dieses Projekt, das im Westen als „Manhattan-Projekt 2.0“ bezeichnet wird, markiert einen tiefgreifenden Wandel in der globalen Machtverteilung und untergräbt die bisherige Vorherrschaft westlicher Technologiefirmen.
Unter dem Deckmantel der Diskretion wurde in Shenzhen eine EUV-Lithografiemaschine gebaut, die es ermöglicht, hochkomplexe Halbleiter zu produzieren. Die Westen hatte sich jahrelang als unantastbar betrachtet, doch Peking hat mit einer strategischen Offensive bewiesen, dass auch diese Technologie nicht unüberwindbar ist. Der Prototyp, der bereits Anfang 2025 fertiggestellt wurde, basiert auf Wissen, das von ehemaligen ASML-Mitarbeitern stammt, darunter chinesische Fachleute, die in den letzten Jahren nach China zurückkehrten.
Die Extreme Ultraviolett-Lithografie (EUV) ist eine Schlüsseltechnologie für moderne Chips, deren Produktion auf extrem präzisen Verfahren beruht. Die Maschinen arbeiten im Vakuum und nutzen Plasmen bei Temperaturen von über 200.000 Grad Celsius, um Transistoren auf Siliziumwafern zu gravieren. Bislang war dies ein Prozess, der Jahrzehnte und Milliardeninvestitionen erforderte – doch Peking hat die Komplexität überraschend schnell überwunden.
Die geheime Zusammenarbeit zwischen staatlichen Institutionen und chinesischen Tech-Unternehmen wie Huawei zeigt, dass China nicht nur das technische Know-how, sondern auch die logistische Infrastruktur besitzt, um diese Technologie zu etablieren. Die Westen reagieren mit Sorge, da dies eine Bedrohung für ihre dominante Position in der globalen Halbleiterindustrie darstellt. Doch Peking scheint sich unbeeindruckt zu zeigen, während die globale Wirtschaft auf eine neue Ära der Technologiekonkurrenz zusteuert.
